传三星将投百亿美元,在美国德州建EUV新厂-半导体-热点资讯-野望文存-科技 
    欢迎来到野望文存-科技!
当前位置:野望文存-科技 > 热点资讯 > 半导体 >  传三星将投百亿美元,在美国德州建EUV新厂

传三星将投百亿美元,在美国德州建EUV新厂

发表时间:2020-11-21 23:31:00  来源:野望文存  浏览:次   【】【】【

钜亨网援引韩媒报道称,为如期在2022 年量产 3 纳米芯片,三星将在美国德州奥斯汀的半导体子公司启动EUV专用系统 LSI 新厂投资计划。据悉,此项投资高达 100 亿美元,月产能约 7 万片。


韩媒infostockdaily报道,相关行业人士表示,三星在奥斯汀的新厂已确认将生产非内存半导体 (Non-memory Semiconductor) 和系统 LSI。



此前业界就已传出,三星电子正计划在韩国华城、平泽以及美国德州奥斯汀等地建立 EUV 生产体系,作为 7 纳米以下芯片的生产基地。


同时根据韩媒披露,三星副会长李在镕上个月亲访荷兰ASML总部,实地了解了EUV 设备生产情况,并希望提前交付预定的 EUV 生产设备。


不过韩媒在最新的报道中,并未提到三星目前美国工厂的进展,包括是否已经通过美国政府的审查或已进入最终阶段。


来源:集微网


【半导体光刻与刻蚀论坛2020】

半导体光刻与刻蚀材料、设备与技术论坛2020将于12月30-31日召开。会议由亚化咨询主办,多家国内外企业重点支持和参与,将对半导体产业核心工艺——光刻和刻蚀产业链相关的重点议题展开深入探讨。

会议主题

1.半导体光刻与刻蚀产业链相关政策趋势

2.国际先进光刻材料设备与技术

3.半导体光刻胶及其原料

4.半导体光刻技术——DUV、浸没式、多重曝光、EUV、新技术

5.光刻与刻蚀产业链的国产化发展

6.光掩膜版、光刻气、光刻源、光刻机及其关键零部件

7.光刻配套——涂胶显影、光刻胶剥离、检测等

8.刻蚀技术——湿法、干法、等离子刻蚀、反应离子刻蚀、ICP刻蚀等

9.刻蚀工艺、刻蚀机及刻蚀液(气体)

10.光刻、刻蚀与先进封装

11.半导体园区与企业参观(待定)


如果您有意向做演讲报告或赞助或参会,欢迎您与我们联系:



徐经理

MP:18021028002  (微信同号)

Email:amy@asiachem.org

责任编辑:蔡学森